Scegliere il porta-campioni corretto per un processo è importante quanto scegliere il metodo di deposizione corretto. Le caratteristiche porta-campioni possono influenzare l’uniformità, la morfologia e la composizione del film risultante.
Porta-campioni disponibili
Il portacampioni HEX è dotato di un anello di bloccaggio esterno per contenere i wafer, oltre a includere fori per il bloccaggio individuale di campioni più piccoli.
Attenendosi alla filosofia di progettazione modulare del sistema HEX, i porta-campioni sono completamente intercambiabili, quindi uno statico potrebbe essere facilmente sostituito, ad esempio, con uno rotante e riscaldato, senza che sia necessaria l’assistenza di un tecnico specializzato.
Le opzioni disponibili sono:
- Rotazione (5-28 rpm)
- Riscaldamento (fino a 500C)
- Bias RF e DC
- Raffreddamento ad acqua (fino a 15C)
- Raffreddamento Peltier (fino a -10C)
Porta-campioni rotante e riscaldato
Il porta-campioni può essere aggiornato con uno che incorpora la rotazione e il riscaldamento del campione.
La rotazione (5-28 giri/min come standard) migliora notevolmente l’uniformità dei film ed è consigliata per campioni con dimensioni superiori a 15 mm e/o dove è importante una buona uniformità.
Il porta-campioni dispone di opzioni per il riscaldamento a 500°C che permettono di ottenere una migliore morfologia del film per alcuni materiali. Grazie alla tecnologia PID, il controllo della temperatura è accurato entro un grado.
