Da oltre 40 anni Hiden Analytical progetta e sviluppa sistemi basati su spettrometro di massa a quadrupolo della massima qualità. Ci siamo costruiti la reputazione di forniture strumenti con sensibilità, accuratezza e riproducibilità superiori insieme a un servizio globale di prima classe e una rete di supporto applicativo.
La lavorazione di film sottili nella ricerca, nello sviluppo e nella funzionalizzazione delle superfici ha un ampio campo di applicazione nei settori della microelettronica, nanotecnologia, fotovoltaico, meccanica, ottica, fotonica, tessile, rivestimenti, chimica, biologia e medicina.
La lavorazione dei film sottili utilizza una vasta gamma di tecniche, fra cui:
- Magnetron sputtering
- ALD – Atomic Layer Deposition
- CVD – Chemical Vapour Deposition
- MOCVD – Metal Organic Chemical Vapour Deposition
- PECVD – Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition
- MBE – Molecular Beam Epitaxial growth
- RIE – Reactive Ion Etch
- IBE/RIBE – Ion Beam Etch and Reactive Ion Beam Etch
Ciascuna tecnica è spesso adattata a un’applicazione specifica e richiede parametri di processo speciali per produrre le proprietà di superficie/pellicola richieste. Gli spettrometri di massa di Hiden forniscono informazioni critiche sulla lavorazione e sulla caratterizzazione dei film sottili, consentendo l’ottimizzazione della produzione dei film sottili e della qualità della superficie.
I sistemi di Hiden sono configurati individualmente per garantire una risposta ottimale dell’analizzatore in termini di sensibilità e velocità.
Per vedere i sistemi utilizzati in questo campo, visitare il collegamento seguente: